HiClave 自動化高壓反應系統以模塊化的形式構建, 包含高壓反應釜、加熱冷卻系統、磁力攪拌系統、多種形式的氣體、液體給料系統在內個多種組件,用于氧化反應、氫化反應、羰基化反應、聚合反應等反應全自動化控制。
1、Hitec Zang 高壓反應釜
Hitec Zang 高壓反應釜,具有以下特點:
ü 10 ml 到 250 ml 的反應器
ü 壓力高達300 bar
ü 溫度高達300 °C
ü 純金屬蓋密封
ü 重量加料
ü 磁力攪拌器或磁耦合的頂部攪拌器
其中100-250ml高壓反應釜,采用螺絲擰緊的法蘭蓋,帶7個接口,其中3個接口在蓋外面易于連接,中心的連接是磁力耦合的攪拌頭。反應釜由不銹鋼或者合金制作,可以通過加熱套加熱,通過冷卻板或者內部冷卻回路進行冷卻。攪拌采用磁力攪拌頭,可選40或80Ncm扭矩。
儀器有電加熱套的加熱,磁力攪拌頭的攪拌,溫度控制器。
連接件有:1個攪拌用軸,1根溫度控制的浸入管,1個金屬片,用于最大壓力下的安全限制。1個壓力顯示,1個減壓閥,1個自由支配的,可用于氣體取樣或者液體取樣。
可選項包括:氣體注入模塊,液體或氣體取樣,通過冷卻板或冷卻環的冷卻,哈氏合金或其他合金。
Hitec Zang 高壓反應釜系統用于高壓下的反應,尤其是多相的反應系統。可采用10-250ml的反應器,max壓力可達300bar或400bar, max溫度可達300或400℃,由于使用純金屬的壓力密封蓋,該系統可實現精確測量氣體的消耗量。多種加熱、冷卻系統、磁力攪拌系統及體積或者重量的氣體或液體給料系統 ,都可配備。HiClave 系統可以是單個或者多個平行反應系統,除標準配置外,定制化的設計可滿足客戶多種需求。
加氫反應模塊可實現:
ü 惰性氣體的自動沖洗
ü 自動密封性試驗
ü 用MFC測量氣體消耗量
ü 數值的記錄
ü 可選獨立使用設備
除高壓平行反應,還有其他類型的平行反應系統,可以實現:
ü 個性化、高動態的溫控系統
ü 模塊化 & 靈活性
ü 全自動系統
ü 250 , 400 ml
ü 簡便快速處理
自動化平行反應系統的特點:
ü 一個電腦及軟件可控制多個系統
ü 反應器參數的全自動化控制,如進料速度,溫度、壓力、PH及攪拌等
ü 單個反應器*獨立的操作條件
ü 多種給料方式可選(液體、固體和氣體、重量和體積等)
ü 自動化取樣可選
ü 惰性材料:玻璃、聚四氟乙烯
ü 多個單獨反應器共用一臺冷卻器
ü 方便且快速的處理(更換反應器<1分鐘)
ü 可單獨擴展和升級
ü 24小時無人值守運行